Vui lòng dùng định danh này để trích dẫn hoặc liên kết đến tài liệu này:
http://thuvien.ued.udn.vn/handle/TVDHSPDN_123456789/10771| Nhan đề: | Atomic Layer Deposition of Ultrathin Copper Metal Films from a Liquid Copper(I) Amidinate Precursor |
| Tác giả: | Zhengwen Li Antti Rahtu Roy G. Gordon |
| Năm xuất bản: | 2006 |
| Trích dẫn: | Journal of The Electrochemical Society, 153 11 C787-C794 2006 |
| Định danh: | http://thuvien.ued.udn.vn/handle/TVDHSPDN_123456789/10771 |
| Bộ sưu tập: | Hóa học (TC) |
Các tập tin trong tài liệu này:
Không có tập tin nào liên quan với tài liệu này.
Khi sử dụng các tài liệu trong Thư viện số phải tuân thủ Luật bản quyền.
